電漿光譜儀
概述:
FloTron是一套可即時監控的電漿光譜分析儀,能顯著提供鍍膜的速率以及製程的再現性,同時在產品的品質及產能的提升也有相當的幫助,此設備的投資在相當短的時間內便可因為生產各方面的改善而達到相對成本的快速回收,是反應式電漿鍍膜應用中相當關鍵的零組件。
FloTron的運作架構如下:

FLOTRON™的優勢
- 應用:反應性磁控濺鍍系統,真空電弧,電子束蒸發,IBS,PECVD和PEALD製程
- 高精度和優異的長期製程穩定性和製程與製程間之(批次與批次間)再現性
- 經濟高效且易於結合解決方案,有效幫助電漿製程的開發。
- 可以改善製程:更高的鍍膜速率(例如2-3倍),薄膜特性(例如n,k),減少的電弧和微觀和宏觀薄膜缺陷的數量
- 新的先進軟體功能,例如 增強的“雙傳感器”模式,過程設定自動化等。
FLOTRON™特點
- 標準FloTron™系統上有3,5和9(多信號)組控制訊號執行輸出。
- 單波長“PMT +濾波器”型光輸入(OIs)
- 對於長達4.0米長的濺鍍源,可以使用多個OIs,做多區域製程控制
- 具有智慧型感應技術,可以使用於HIPIMS等離子監控和反應氣體控制。
- 新的0-5V,0-10V類比電壓和(選配)4-20 mA電流輸入
- 新的3種控制算法:用於閉環控制的PID和PDF以及用於終點檢測的EPD
- 新內置自動傳感器和過程校準程序
- 新型0-5V,0-10V類比電壓輸出,用於傳感器信號的高速數據採集(DAQ)或高頻儀器(如示波器)的分析,
- 可選配產業通訊界面PROFIBUS和PROFINET
- 免費JAVA的FloTron™圖形用戶界面和一個智慧型FloTron™存檔UI應用程序,用於儲存製程數據,可以製程後查看與製程分析。
如電漿光譜儀需求或是需要詳細產品資料,請聯絡洪先生 E-mail:sung@junsun.com.tw 手機:0958-923-545
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